氣體純化器 — 半導體級超高純氣體純化設備
Gas Purifiers
氣體純化器用於將工業級氣體提升至半導體製程可用的超高純等級。鋼瓶或大宗供應的氮氣、氫氣、氬氣、氧氣即使標示 5N（99.999%）以上，仍殘留 ppm 級的水氣、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷與非甲烷總烴；這些雜質會在磊晶、蝕刻、沉積等製程中造成薄膜缺陷、界面氧化與良率損失。純化器安裝在用氣端或廠務供氣主幹，以吸附、催化與吸氣（Getter）等技術把雜質降到 ppb 甚至 ppt 等級。
產品線依流量與工作方式分為三類：POU 常溫常壓型為管式純化器，安裝於用氣點前端，流量 5～4000 SLPM，常溫催化吸附、免加熱免再生氣源，體積小、安裝成本低，可返廠再生、設備壽命 20 年以上，另有 18／24 MPa 的高壓型；加熱型為小流量（0.2～150 LPM）合金吸氣劑純化器，在高溫下利用整個合金的體積容量，除雜效率優於常溫型，並可去除常溫型難處理的 CH₄ 與 N₂，吸氣柱可現場直接更換；全自動運行型為大流量設備（10～50000 Nm³/h），以多個吸附桶並聯，在常溫純化與高溫再生兩種模式下交替工作，由 PLC 控制報警、高溫聯鎖與資料記錄，達成 24 小時不間斷供氣。
依氣體種類提供對應機種：氮氣（含去除 CH₄ 的催化型）、氫氣（吸附式／吸氣式／複合式三種工藝，另有液氮深冷型可深度去除 CH₄、N₂、Ar）、氧氣、稀有氣體（Ar、He、Kr、Ne、Xe）、氨氣、二氧化碳（含超臨界 CO₂ 專用型）、XCDA 潔淨乾燥空氣，以及最高工作壓力 240 Bar 的高壓型與適合臨時供應／備機的大流量常溫型。POU 系列另可處理 HCl、Cl₂、BF₃、SiHCl₃、GeH₄、H₂S、AsH₃、PH₃ 等三十多種特殊氣體。
典型應用：12 吋晶圓廠製程氣體供應、面板與 LED 磊晶用氣、鋰電池乾燥房惰性氣體、光纖預製棒製程、實驗室分析儀器載氣。選型時需確認氣體種類、最大與平均流量、氣源品質、純化後品質要求，以及工作環境與用氣特點。
