氣體純化器 — 半導體級超高純氣體純化設備
Gas Purifiers
氣體純化器用於將工業級氣體提升至半導體製程可用的超高純等級。鋼瓶或大宗供應的氮氣、氫氣、氬氣、氧氣即使標示 5N（99.999%）以上，仍殘留 ppm 級的水氣、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷與非甲烷總烴；這些雜質會在磊晶、蝕刻、沉積等製程中造成薄膜缺陷、界面氧化與良率損失。純化器安裝在用氣端或廠務供氣主幹，以吸附、催化與吸氣（Getter）等技術把雜質降到 ppb 甚至 ppt 等級。
產品線依流量與工作方式分為三類：POU 常溫常壓型為管式純化器，安裝於用氣點前端，流量 5～4000 SLPM，常溫催化吸附、免加熱免再生氣源，體積小、安裝成本低，可返廠再生、設備壽命 20 年以上，另有 18／24 MPa 的高壓型；加熱型為小流量（0.2～150 LPM）合金吸氣劑純化器，在高溫下利用整個合金的體積容量，除雜效率優於常溫型，並可去除常溫型難處理的 CH₄ 與 N₂，吸氣柱可現場直接更換；全自動運行型為大流量設備（10～50000 Nm³/h），以多個吸附桶並聯，在常溫純化與高溫再生兩種模式下交替工作，由 PLC 控制報警、高溫聯鎖與資料記錄，達成 24 小時不間斷供氣。
依氣體種類提供對應機種：氮氣（含去除 CH₄ 的催化型）、氫氣（吸附式／吸氣式／複合式三種工藝，另有液氮深冷型可深度去除 CH₄、N₂、Ar）、氧氣、稀有氣體（Ar、He、Kr、Ne、Xe）、氨氣、二氧化碳（含超臨界 CO₂ 專用型）、XCDA 潔淨乾燥空氣，以及最高工作壓力 240 Bar 的高壓型與適合臨時供應／備機的大流量常溫型。POU 系列另可處理 HCl、Cl₂、BF₃、SiHCl₃、GeH₄、H₂S、AsH₃、PH₃ 等三十多種特殊氣體。
典型應用：12 吋晶圓廠製程氣體供應、面板與 LED 磊晶用氣、鋰電池乾燥房惰性氣體、光纖預製棒製程、實驗室分析儀器載氣。選型時需確認氣體種類、最大與平均流量、氣源品質、純化後品質要求，以及工作環境與用氣特點。
純化器怎麼選：型號編碼、選型資訊與系列對照
純化器的型號本身就寫著規格。看懂編碼規則，就能從型號直接讀出系列、工藝、流量與可選配置；反過來，把下面六項資訊備齊，選型就能一次到位。
型號編碼規則
以 BS-P-G-500-N-HV 為例，六個欄位由左到右依序是公司簡稱、系列、工藝、流量、氣體種類與可選項。
LPM 代表 L/min；CMH 代表 Nm³/h。S 系列純化器的實際配置詳見各機種頁面。
選型需確認的六項資訊
這六項決定了吸附配方、筒身尺寸與系統架構。缺任何一項，報價與選型都只能用假設值推估。
同一台設備的吸附材料是針對特定氣體配置的，不能任意換氣種
最大流量決定設備尺寸，平均流量決定耗材壽命，兩個都要
ppb 與 ppt 級的工藝路線與驗收方法完全不同
進口雜質濃度直接決定吸附床負荷與再生頻率
連續供氣或間歇、可否停機、現場空間與公用條件
接頭形式、壓力等級、材質限制、防爆分區等
P／H／S 三系列怎麼分
先看流量級距，再看要不要去除 CH₄ 與 N₂、以及能不能接受停機 —— 三個問題就能收斂到一個系列。
| 系列 | 流量範圍 | 什麼情況選它 | 技術重點 |
|---|---|---|---|
| P 系列（POU 常溫型） | 5～4000 LPM | 使用流量小，不需自動再生、不需去除 CH₄ | 常溫常壓催化吸附，體積小、成本低、安裝便捷，可返廠再生 |
| H 系列（加熱型） | 0.2～150 LPM | 使用流量小，但需要去除 CH₄ 或 N₂ | 合金吸氣劑高溫工作，除雜深度優於常溫吸附，吸氣柱現場更換 |
| S 系列（全自動型） | 10～50000 CMH | 使用流量大，需要全自動運行、24 小時不間斷供氣 | 吸附桶自動切換再生，PLC 控制與安全聯鎖，使用壽命 20 年以上 |
已經知道要哪個系列，但不確定型號？或是手上只有一張氣源分析報告？把上面六項資訊給我們，我們幫你把型號配出來。
