氣體純化器
深冷氫氣純化器
產品概述
以液氮作為冷源的深冷型氫氣純化器。多個吸附桶並聯，在低溫純化與高溫再生兩種模式下交替工作，可深度去除氫氣中的 CH₄、N₂ 與 Ar —— 這些是常溫吸附難以處理的雜質。流量 10～1000 Nm³/h，使用壽命 20 年以上。
產品特性
指標表（適用氣體：H₂）
| 雜質 | 進口 INLET (ppm) | BSS7-C 出口 (ppb) |
|---|---|---|
| 工藝 | — | ADS（液氮深冷） |
| H₂O | < 5 | < 1 |
| O₂ | < 3 | < 1 |
| CO | < 1 | < 1 |
| CO₂ | < 1 | < 1 |
| N₂ | < 1 | < 1 |
| Ar | < 1 | < 1 |
| CH₄ | < 0.5 | < 1 |
| NMHC | < 1 | < 1 |
| 微粒 PARTICLES | — | ≤ 1 pcs/m³ (@0.003μm) |
| 流量範圍 | — | 10–1000 Nm³/h |
表列為標準型號的指標與配置，其他特殊需求可另行洽詢。
詳細說明
為什麼要用深冷
吸附劑對雜質的吸附容量隨溫度下降而顯著提高。CH₄、N₂、Ar 這類沸點低、極性弱的分子，在常溫下與吸附劑的作用力太弱，常溫吸附難以有效攔截；把吸附桶降到液氮溫區後，這些分子才能被穩定捕捉。 這也是本系列在整條產品線裡的獨特位置：氬是唯一只有深冷能處理的雜質。催化路線（如 BSS9）能對付甲烷，吸氣劑路線（如 BSS7-G）能對付氮與甲烷，但都拿單原子的氬沒辦法。工藝介紹
BSS7-C 系列以多個吸附桶並聯，使用液氮做冷源，在低溫純化與高溫再生兩種模式下交替工作。一組吸附桶處於低溫純化狀態時，另一組進行高溫再生，達成連續供氣，使用壽命大於 20 年。適用場合
對氫氣中 CH₄、N₂、Ar 有 ppb 級要求的半導體、光纖或特殊材料製程。若製程只在意 H₂O、O₂、CO、CO₂，一般選用常溫型的 BSS7 系列即可，不必付出液氮的營運成本。適用製程與產業
・先進製程磊晶：對載氣中總雜質要求最嚴的環節 ・光纖預製棒：氬殘留會影響沉積層的折射率均勻性 ・化合物半導體 MOCVD：氮背景會干擾摻雜控制 ・高階研究與計量：需要接近理論極限純度的氫氣 ・回收氫再純化：回收氣源的雜質種類比新氣複雜，深冷的涵蓋面最廣現場配置與安裝要點
・液氮供應是先決條件：需要穩定的液氮供應與儲槽、真空絕熱管路，以及液位監控。沒有既有液氮系統的廠區，這部分的建置成本往往高於純化器本身 ・低溫區的絕熱與防結霜：冷箱周邊要避免結霜與冷凝水滴落至電控設備 ・低溫傷害防護：低溫管路與閥件需標示與隔離，避免人員直接接觸 ・再生段與低溫段的熱隔離：切換時的熱衝擊是設備壽命的關鍵，須依原設計的升降溫曲線運轉 ・氫氣安全規範同樣適用：通風、偵測、緊急遮斷、防爆區劃分一項都不能少 ・出口端配置含氬分析能力的儀器：一般水氧分析儀看不到氬，驗收要用對儀器維護與再生
・吸附桶由系統自動排程再生，吸附材料設計壽命 20 年以上 ・液氮消耗量與運轉成本要納入整體評估，這是深冷路線與常溫路線最大的差異 ・日常維護重點：液位與絕熱狀態、低溫閥件動作、升降溫曲線是否正常 ・長期停機後復機需依程序緩慢降溫，避免熱應力損傷與相鄰機種怎麼選
| 機種 | 可去除的難處理雜質 | 需要液氮 | 流量 | 運轉成本 |
|---|---|---|---|---|
| BSS7-C（本機種） | CH₄、N₂、Ar | 是 | 10–1000 Nm³/h | 高 |
| BSS7-G／BSS7-H | CH₄、N₂ | 否 | 10–300 Nm³/h | 中 |
| BSS7-A | 皆不處理 | 否 | 10–1000 Nm³/h | 低 |
