Purificadores de gas — Sistemas de ultra alta pureza de grado semiconductor

Los purificadores de gas elevan los gases de calidad industrial hasta la ultra alta pureza que exigen los procesos de semiconductores. Incluso un nitrógeno, hidrógeno, argón u oxígeno de calidad 5N (99,999%) sigue arrastrando H₂O, O₂, CO, CO₂, CH₄ y NMHC a nivel de ppm, que provocan defectos de capa, oxidación interfacial y pérdida de rendimiento en las etapas de epitaxia, grabado y deposición. Instalados en el punto de uso o en el colector general de suministro, los purificadores reducen estas impurezas a niveles de ppb e incluso ppt mediante tecnologías de adsorción, conversión catalítica y getter.

La gama cubre tres tipos: purificadores en línea de punto de uso a temperatura ambiente (5–4000 SLPM, sin necesidad de calentamiento ni gas de purga, con variantes de alta presión de 18 y 24 MPa); purificadores getter calentados de bajo caudal (0,2–150 LPM), que además eliminan CH₄ y N₂ y permiten sustituir el getter in situ; y unidades totalmente automáticas de gran caudal (10–50000 Nm³/h), con lechos de adsorción en paralelo que alternan purificación a temperatura ambiente y regeneración a alta temperatura bajo control PLC para un suministro ininterrumpido las 24 horas.

Existen modelos específicos para nitrógeno (incluida una versión catalítica para eliminar CH₄), hidrógeno (configuraciones de adsorción, getter y combinada, además de una versión criogénica con nitrógeno líquido para la eliminación profunda de CH₄, N₂ y Ar), oxígeno, gases raros (Ar, He, Kr, Ne, Xe), amoníaco, dióxido de carbono (incluida una versión específica para CO₂ supercrítico) y aire limpio y seco XCDA, junto con unidades de alta presión de 240 bar y unidades de gran caudal a temperatura ambiente, idóneas para suministro temporal o de reserva. La gama de punto de uso trata además más de treinta gases especiales, entre ellos HCl, Cl₂, BF₃, SiHCl₃, GeH₄, H₂S, AsH₃ y PH₃.

Aplicaciones habituales: suministro de gases de proceso en fábricas de obleas de 300 mm, epitaxia de displays y LED, gas inerte para salas secas de baterías de litio, fabricación de preformas de fibra óptica y gas portador para instrumentos analíticos de laboratorio. Para dimensionar un equipo hay que confirmar el tipo de gas, los caudales máximo y nominal, la calidad del gas de origen, la calidad de salida requerida y el entorno y el régimen de uso.