Purificador de gas calentado - Purificadores de gas | Baisheng Tech
Código de productoBSHPurificadores de gasPurificadores calentados
Purificadores de gas

Purificador de gas calentado

Descripción del producto

Purificador de bajo caudal basado en una aleación getter calentada. A diferencia de las unidades a temperatura ambiente, que dependen únicamente de la adsorción superficial, el diseño calentado aprovecha todo el volumen de la aleación, lo que aporta mayor eficiencia de eliminación y capacidad para retirar CH₄ y N₂, que las unidades ambientales no pueden tratar. Caudal de 0,2 a 150 LPM, disponible en formato armario y mural.

Características y especificaciones

Tabla de selección

ModeloCaudal máximo (LPM)Tipo de interfazPresión diferencial máxima (MPa)
BSH0010.2Racor de manguito de 1/8"0.05
BSH00351/4"VCR0.05
BSH050501/4"VCR0.05
BSH075751/4"VCR0.05
BSH1001001/2"VCR0.05
BSH1501501/2"VCR0.05
Disponible en formato armario y mural. Solo se listan las especificaciones y configuraciones de los modelos estándar. Contáctenos para requisitos especiales.
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Email:sales@baisheng-tech.com

Teléfono+886-2-25981958

Descripción detallada

En qué se diferencia del POU a temperatura ambiente

Los purificadores POU a temperatura ambiente dependen principalmente de la adsorción catalítica, que solo actúa sobre la *superficie* del adsorbente. El tipo calentado trabaja una aleación getter a temperatura elevada, aprovechando todo el volumen de la aleación. Para el mismo tamaño, esto aporta una mayor eficiencia de eliminación y una vida útil más larga, y elimina además CH₄ y N₂, que las unidades a temperatura ambiente no pueden tratar.

Características del producto

・Sin necesidad de devolución a fábrica: la columna getter se sustituye in situ al final de su vida, sin mantenimiento ・Con un gas de origen de calidad 5N o superior, la vida de la columna getter alcanza de 3 a 5 años ・Rango de caudal de 0,2 a 150 LPM ・Controles integrados de alimentación, temperatura y aviso de fin de vida ・Elimina H₂O, O₂, CO, CO₂, H₂, NMHC, N₂ y CH₄ hasta menos de 1 ppb; también está disponible la eliminación de ácidos, bases y compuestos refractarios

Gases admitidos

N₂, H₂, O₂, Ar, He, Xe, CDA, CO₂, CH₄ y similares.