เครื่องทำก๊าซบริสุทธิ์ — ระบบก๊าซบริสุทธิ์สูงยิ่งยวดเกรดเซมิคอนดักเตอร์

เครื่องทำก๊าซบริสุทธิ์ยกระดับก๊าซเกรดอุตสาหกรรมให้มีความบริสุทธิ์สูงยิ่งยวดตามที่กระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ต้องการ แม้แต่ไนโตรเจน ไฮโดรเจน อาร์กอน หรือออกซิเจนที่ระบุเกรด 5N (99.999%) ก็ยังมี H₂O, O₂, CO, CO₂, CH₄ และ NMHC ปนอยู่ในระดับ ppm ซึ่งทำให้เกิดข้อบกพร่องของฟิล์ม การเกิดออกซิเดชันที่รอยต่อ และผลผลิตตกในขั้นตอนเอพิแทกซี การกัดลาย และการเคลือบชั้น เครื่องทำก๊าซบริสุทธิ์ที่ติดตั้ง ณ จุดใช้งานหรือบนท่อจ่ายหลักของโรงงาน จะลดสิ่งเจือปนเหล่านี้ลงถึงระดับ ppb หรือแม้กระทั่ง ppt ด้วยเทคโนโลยีการดูดซับ การแปลงด้วยตัวเร่งปฏิกิริยา และเกตเตอร์

กลุ่มผลิตภัณฑ์แบ่งเป็นสามประเภท ได้แก่ เครื่องแบบ POU อินไลน์ที่ทำงานที่อุณหภูมิห้อง (5–4000 SLPM ไม่ต้องให้ความร้อนและไม่ต้องใช้ก๊าซเป่าล้าง มีรุ่นแรงดันสูง 18/24 MPa) เครื่องแบบเกตเตอร์ให้ความร้อนสำหรับอัตราไหลต่ำ (0.2–150 LPM) ซึ่งกำจัด CH₄ และ N₂ ได้ด้วยและเปลี่ยนเกตเตอร์ที่หน้างานได้ และเครื่องอัตโนมัติเต็มรูปแบบสำหรับอัตราไหลสูง (10–50000 Nm³/h) ที่ใช้เบดดูดซับขนานกันสลับกันทำงานระหว่างการทำบริสุทธิ์ที่อุณหภูมิห้องกับการฟื้นสภาพที่อุณหภูมิสูงภายใต้การควบคุมด้วย PLC เพื่อจ่ายก๊าซต่อเนื่อง 24 ชั่วโมง

มีรุ่นเฉพาะสำหรับไนโตรเจน (รวมถึงรุ่นตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับกำจัด CH₄) ไฮโดรเจน (มีทั้งแบบดูดซับ แบบเกตเตอร์ และแบบผสม พร้อมรุ่นไครโอเจนิกที่ใช้ไนโตรเจนเหลวสำหรับกำจัด CH₄, N₂ และ Ar อย่างลึก) ออกซิเจน ก๊าซหายาก (Ar, He, Kr, Ne, Xe) แอมโมเนีย คาร์บอนไดออกไซด์ (รวมถึงรุ่นเฉพาะสำหรับ CO₂ เหนือวิกฤต) อากาศแห้งสะอาด XCDA ตลอดจนรุ่นแรงดันสูง 240 บาร์ และรุ่นอุณหภูมิห้องอัตราไหลสูงที่เหมาะกับการจ่ายชั่วคราวหรือสำรอง ส่วนกลุ่ม POU ยังรองรับก๊าซเฉพาะทางอีกกว่าสามสิบชนิด รวมถึง HCl, Cl₂, BF₃, SiHCl₃, GeH₄, H₂S, AsH₃ และ PH₃

การใช้งานทั่วไป: การจ่ายก๊าซกระบวนการในโรงงานเวเฟอร์ขนาด 300 มม. งานเอพิแทกซีของจอแสดงผลและ LED ก๊าซเฉื่อยสำหรับห้องแห้งของแบตเตอรี่ลิเทียม การผลิตแท่งแก้วต้นแบบใยแก้วนำแสง และก๊าซพาสำหรับเครื่องมือวิเคราะห์ในห้องปฏิบัติการ การกำหนดสเปกเครื่องต้องยืนยันชนิดของก๊าซ อัตราไหลสูงสุดและอัตราไหลใช้งาน คุณภาพก๊าซต้นทาง คุณภาพขาออกที่ต้องการ ตลอดจนสภาพแวดล้อมและรูปแบบการใช้งาน