เครื่องทำก๊าซบริสุทธิ์
เครื่องทำบริสุทธิ์ก๊าซแบบ POU อุณหภูมิและความดันปกติ
รายละเอียดสินค้า
เครื่องทำบริสุทธิ์แบบท่อที่ติดตั้งไว้หน้าจุดใช้ก๊าซ (Point of Use) ใช้เทคโนโลยีการดูดซับด้วยตัวเร่งปฏิกิริยาเพื่อกำจัดสิ่งเจือปนปริมาณน้อยออกจากก๊าซที่อุณหภูมิและความดันปกติ ความบริสุทธิ์ที่ทางออกลงถึงระดับ ppb อัตราการไหลครอบคลุม 5–4,000 SLPM ขนาดข้อต่อ ความยาวตัวถัง และการจัดวางหน้าแผงควบคุม สั่งทำตามความต้องการหน้างานได้ทั้งหมด
คุณสมบัติและข้อมูลจำเพาะ
ตารางพารามิเตอร์การเลือกรุ่น POU มาตรฐาน
| รุ่น | อัตราการไหลสูงสุด (SLPM) | อัตราการไหลมาตรฐาน (SLPM) | ความดันใช้งานสูงสุด (MPa) | รูปแบบข้อต่อ | ความยาว OAL (Face to Face) | ขนาดท่อ OD (มม.) |
|---|---|---|---|---|---|---|
| BSP005 | 5 | 0.5 | 6.9 | 1/4"MVCR | 84.1 (3.31"±.03) | 38.1 (1.5") |
| BSP010 | 10 | 1.5 | 6.9 | 1/4"MVCR | 127 (5.00"±.03) | 38.1 (1.5") |
| BSP010A | 10 | 1.5 | 6.9 | 1/4"MVCR | 114.3 (4.50"±.03) | 38.1 (1.5") |
| BSP050 | 50 | 5 | 1.73 | 1/4"MVCR | 208.3 (8.20"±.03) | 50.8 (2.0") |
| BSP050A | 50 | 5 | 1.73 | 1/4"MVCR | 160 (6.30"±.03) | 50.8 (2.0") |
| BSP060 | 60 | 9 | 1.73 | 1/4"MVCR | 208.3 (8.20"±.03) | 76.2 (3.0") |
| BSP075 | 75 | 10 | 1.73 | 1/4"MVCR | 201.7 (7.94"±.03) | 76.2 (3.0") |
| BSP100 | 100 | 12 | 1.73 | 1/4"MVCR | 317.5 (12.50"±.03) | 50.8 (2.0") |
| BSP120 | 120 | 25 | 1.73 | 1/4"MVCR | 254 (10.00"±.03) | 76.2 (3.0") |
| BSP250 | 250 | 40 | 1.73 | 1/2"MVCR | 462.28 (18.20"±.03) | 76.2 (3.0") |
| BSP300 | 300 | 80 | 1.73 | 1/2"MVCR | 439.42 (17.3"±.06) | 101.6 (4.0") |
| BSP500 | 500 | 80 | 1.73 | 1/2"MVCR | 508 (20.00"±.06) | 101.6 (4.0") |
| BSP800 | 800 | 200 | 1.73 | 1/2"MVCR | 702 (27.64"±.06) | 152.4 (6.0") |
| BSP1000 | 1000 | 300 | 1.73 | 1/2"MVCR | 999.24 (39.34"±.06) | 152.4 (6.0") |
| BSP1500 | 1500 | 400 | 1.73 | 3/4"MVCR | 1134.4 (44.66"±.06) | 152.4 (6.0") |
| BSP2000 | 2000 | 1000 | 1.73 | 3/4"MVCR | 1290.32 (50.8"±.06) | 152.4 (6.0") |
| BSP2500 | 2500 | 1100 | 1.73 | 1"MVCR | 1302.4 (51.28"±.06) | 152.4 (6.0") |
| BSP4000 | 4000 | 2000 | 1.73 | 1"VCR | หน้าแผงประกอบ | หน้าแผงประกอบ |
ตารางนี้แสดงค่าชี้วัดและการจัดวางของรุ่นมาตรฐาน ความต้องการพิเศษอื่น ๆ สอบถามเพิ่มเติมได้
คำอธิบายโดยละเอียด
Working Principle
The P series uses catalytic adsorption to capture impurities from the source gas onto the adsorbent surface at ambient temperature. Because no heating and no purge gas are required, the unit is compact and inexpensive to install — well suited to mounting directly at the point of use ahead of process equipment.Product Features
・Returnable for regeneration every 1–2 years, with an equipment life of over 20 years ・Built-in high-precision filter, 0.003μm filtration rating ・Flow range 5–4000 SLPM ・With a source gas quality of 5N or better, removes H₂O, O₂, CO, CO₂, H₂ and NMHC to < 1 ppb; removal of acids, bases and refractory compounds is also available ・Connection size, body length and panel configuration can be customizedApplicable Gases
N₂, H₂, O₂, Ar, He, Kr, Ne, Xe, CDA, CH₄, CO₂, Cl₂, BF₃, HCl, GeCl₄, GeH₄, H₂S, H₂Se, HBr, SiHCl₃, SO₂ and more than thirty other specialty gases.Purifiable Gases and Outlet Purity
Different gas and impurity combinations call for different adsorbent formulas. When selecting a model, please provide the gas type, flow rate and required outlet purity.| Formula | Applicable gases | Removable impurities and outlet purity |
|---|---|---|
| 51 | AsH₃、PH₃ | H₂O < 1 ppbV; O₂ < 1 ppbV; metals < 1 ppbV |
| 23 | CDA、O₂、N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、H₂、D₂、N₂O、NO、CF₄ | H₂O < 100 pptV; CO₂ < 100 pptV; volatile acids < 1 pptV; volatile bases < 1 pptV; organics < 1 pptV; refractory compounds < 5 pptV; metals < 1 ppbV |
| 44 | CDA、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂、CO₂、C₂H₆、C₃H₈、C₄H₁₀、C₂H₂、C₃H₆、C₂H₄、NH₃ | Condensable organics (>C6) < 1 pptV; non-condensable organics (>C3) < 5 pptV; refractory compounds (as HMDSO) < 1 pptV; C₃H₇NO (DMF) < 100 pptV |
| 48 | CDA、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe | H₂O < 100 pptV; condensable organics (as toluene) < 1 pptV; non-condensable organics (as butane) < 5 pptV; refractory compounds (as HMDSO) < 1 pptV; volatile acids (as SO₂) < 1 pptV; volatile bases (as NH₃) < 10 pptV |
| 84 | CO₂ | H₂O < 1 ppbV; O₂ < 200 pptV; volatile acids < 1 pptV; volatile bases < 1 pptV; refractory compounds < 1 pptV; condensable organics < 1 pptV |
| 62 | CO | H₂O < 1 ppbV; O₂ < 1 ppbV; CO₂ < 1 ppbV |
| 61 | HBr | H₂O < 1 ppbV |
| 32 | B₂H₆、BCl₃、CClH₃、GeCl₄、GeH₄、H₂S、H₂Se、NF₃、SiCl₄、SiF₄、SiH₂Cl₂、SiHCl₃、SO₂、CHClF₂、BF₃ | H₂O < 1 ppbV; metals < 1 ppbV |
| 60 | HCl、Cl₂ | Hydrocarbons (as toluene) < 1 pptV; Fe / Ni / Mo / Cr / Mn < 14 pptV; H₂O < 15 ppbV |
| 22 | CDA、O₂、CO₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂、D₂、NH₃、AsH₃、PH₃、GeH₄、SiH₄、N₂O、NO、CF₄、C₂H₂、(CH₃)₂NH (DMA)、(CH₃)₂N₂H₂ (DMHz) | H₂O < 100 pptV |
| 94 | H₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂/N₂、H₂/noble gas mixtures | H₂O < 100 pptV; CO₂ < 100 pptV; O₂ < 250 pptV; CO < 1 ppbV; volatile acids (as SO₂) < 1 pptV; volatile bases (as NH₃) < 10 pptV; CxHy (45–100 amu) < 10 pptV; CxHy (>100 amu) < 1 pptV; refractory compounds (as HMDSO) < 1 pptV |
| 43 | N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、H₂、CDA、O₂、CO₂ | Volatile acids < 1 pptV; volatile bases < 5 pptV; organics < 1 pptV; refractory compounds < 1 pptV; metals < 1 ppbV |
| 99 | H₂、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂/N₂、H₂/noble gas mixtures | H₂O, O₂, CO and CO₂ all < 100 pptV |
| 95 | N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、CF₄、CH₄、C₂H₆、C₃H₈、C₄H₁₀ | H₂O, O₂, CO, CO₂ and H₂ all < 100 pptV; sulfur compounds < 1 ppbV |
| 72 | NH₃、C₂H₄、GeH₄、CSiH₆、C₂H₇N、C₃H₆、SF₆、H₂/SiH₄、C₂H₈N₂、CH₃SiH₃ | H₂O, O₂ and CO₂ all < 1 ppb; organics (>C4) < 1 ppb; metals < 1 ppb |
| 82 | SiH₄ | H₂O, CO₂, O₂, CO and sulfur compounds all < 1 ppb; metal removal < 1 ppb |
