POU 常溫常壓型氣體純化器 - Thiết bị tinh chế khí | Baisheng Tech
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Thiết bị tinh chế khí

POU 常溫常壓型氣體純化器

Tổng quan sản phẩm

安裝於用氣點前端(Point of Use)的管式純化器,以催化吸附技術在常溫常壓下去除氣體中的微量雜質,出口純度可達 ppb 級。流量涵蓋 5~4000 SLPM,接頭尺寸、筒身長度與盤面配置皆可依現場需求客製。

Tính năng & Thông số kỹ thuật

標準 POU 選型參數表

型號最大流量 (SLPM)標準流量 (SLPM)最大工作壓力 (MPa)接口形式長度 OAL (Face to Face)管徑 OD (mm)
BSP00550.56.91/4"MVCR84.1 (3.31"±.03)38.1 (1.5")
BSP010101.56.91/4"MVCR127 (5.00"±.03)38.1 (1.5")
BSP010A101.56.91/4"MVCR114.3 (4.50"±.03)38.1 (1.5")
BSP0505051.731/4"MVCR208.3 (8.20"±.03)50.8 (2.0")
BSP050A5051.731/4"MVCR160 (6.30"±.03)50.8 (2.0")
BSP0606091.731/4"MVCR208.3 (8.20"±.03)76.2 (3.0")
BSP07575101.731/4"MVCR201.7 (7.94"±.03)76.2 (3.0")
BSP100100121.731/4"MVCR317.5 (12.50"±.03)50.8 (2.0")
BSP120120251.731/4"MVCR254 (10.00"±.03)76.2 (3.0")
BSP250250401.731/2"MVCR462.28 (18.20"±.03)76.2 (3.0")
BSP300300801.731/2"MVCR439.42 (17.3"±.06)101.6 (4.0")
BSP500500801.731/2"MVCR508 (20.00"±.06)101.6 (4.0")
BSP8008002001.731/2"MVCR702 (27.64"±.06)152.4 (6.0")
BSP100010003001.731/2"MVCR999.24 (39.34"±.06)152.4 (6.0")
BSP150015004001.733/4"MVCR1134.4 (44.66"±.06)152.4 (6.0")
BSP2000200010001.733/4"MVCR1290.32 (50.8"±.06)152.4 (6.0")
BSP2500250011001.731"MVCR1302.4 (51.28"±.06)152.4 (6.0")
BSP4000400020001.731"VCR組合盤面組合盤面
表列為標準型號的指標與配置,其他特殊需求可另行洽詢。
Yêu cầu báo giá

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Điện thoại+886-2-25981958

Mô tả chi tiết

工作原理

P 系列純化器採用催化吸附技術,在常溫下將原料氣中的雜質吸附在吸附劑表面。由於不需加熱、不需再生氣源,設備體積小、安裝成本低,適合直接配置在製程設備前端的用氣點。

產品特點

・可返廠再生,每次間隔 1~2 年,設備壽命可達 20 年以上 ・內建高精度過濾器,過濾精度 0.003μm ・可選流量範圍 5~4000 SLPM ・在氣源品質 ≥ 5N 的前提下,可將 H₂O、O₂、CO、CO₂、H₂、NMHC 等雜質去除至 < 1 ppb;亦可提供酸、鹼與難熔化合物的去除 ・接頭尺寸、筒身長短、盤面配置皆可客製

適用氣體

N₂、H₂、O₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、CDA、CH₄、CO₂、Cl₂、BF₃、HCl、GeCl₄、GeH₄、H₂S、H₂Se、HBr、SiHCl₃、SO₂ 等三十多種特殊氣體。

可純化氣體與出口純度對照

不同氣體與雜質組合對應不同的吸附配方,選型時請一併提供氣體種類、流量與純化後品質要求。
配方適用氣體可去除雜質與出口純度
51AsH₃、PH₃H₂O < 1 ppbV;O₂ < 1 ppbV;金屬 < 1 ppbV
23CDA、O₂、N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、H₂、D₂、N₂O、NO、CF₄H₂O < 100 pptV;CO₂ < 100 pptV;揮發性酸 < 1 pptV;揮發性鹼 < 1 pptV;有機物 < 1 pptV;難熔化合物 < 5 pptV;金屬 < 1 ppbV
44CDA、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂、CO₂、C₂H₆、C₃H₈、C₄H₁₀、C₂H₂、C₃H₆、C₂H₄、NH₃可凝結有機物 (>C6) < 1 pptV;不可凝結有機物 (>C3) < 5 pptV;難熔化合物 (as HMDSO) < 1 pptV;C₃H₇NO (DMF) < 100 pptV
48CDA、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、XeH₂O < 100 pptV;可凝結有機物 (as Toluene) < 1 pptV;不可凝結有機物 (as Butane) < 5 pptV;難熔化合物 (as HMDSO) < 1 pptV;揮發性酸 (as SO₂) < 1 pptV;揮發性鹼 (as NH₃) < 10 pptV
84CO₂H₂O < 1 ppbV;O₂ < 200 pptV;揮發性酸 < 1 pptV;揮發性鹼 < 1 pptV;難熔化合物 < 1 pptV;可凝結有機物 < 1 pptV
62COH₂O < 1 ppbV;O₂ < 1 ppbV;CO₂ < 1 ppbV
61HBrH₂O < 1 ppbV
32B₂H₆、BCl₃、CClH₃、GeCl₄、GeH₄、H₂S、H₂Se、NF₃、SiCl₄、SiF₄、SiH₂Cl₂、SiHCl₃、SO₂、CHClF₂、BF₃H₂O < 1 ppbV;金屬 < 1 ppbV
60HCl、Cl₂烴類 (as Toluene) < 1 pptV;Fe / Ni / Mo / Cr / Mn < 14 pptV;H₂O < 15 ppbV
22CDA、O₂、CO₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂、D₂、NH₃、AsH₃、PH₃、GeH₄、SiH₄、N₂O、NO、CF₄、C₂H₂、(CH₃)₂NH (DMA)、(CH₃)₂N₂H₂ (DMHz)H₂O < 100 pptV
94H₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂/N₂、H₂/惰性氣體混合H₂O < 100 pptV;CO₂ < 100 pptV;O₂ < 250 pptV;CO < 1 ppbV;揮發性酸 (as SO₂) < 1 pptV;揮發性鹼 (as NH₃) < 10 pptV;CxHy (45–100 amu) < 10 pptV;CxHy (>100 amu) < 1 pptV;難熔化合物 (as HMDSO) < 1 pptV
43N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、H₂、CDA、O₂、CO₂揮發性酸 < 1 pptV;揮發性鹼 < 5 pptV;有機物 < 1 pptV;難熔化合物 < 1 pptV;金屬 < 1 ppbV
99H₂、O₂、N₂、Ar、He、Ne、Kr、Xe、H₂/N₂、H₂/惰性氣體混合H₂O、O₂、CO、CO₂ 均 < 100 pptV
95N₂、Ar、He、Kr、Ne、Xe、CF₄、CH₄、C₂H₆、C₃H₈、C₄H₁₀H₂O、O₂、CO、CO₂、H₂ 均 < 100 pptV;硫化物 < 1 ppbV
72NH₃、C₂H₄、GeH₄、CSiH₆、C₂H₇N、C₃H₆、SF₆、H₂/SiH₄ 混合、C₂H₈N₂、CH₃SiH₃、H₂/SiH₄ 混合H₂O、O₂、CO₂ 均 < 1 ppb;有機物 (>C4) < 1 ppb;金屬 < 1 ppb
82SiH₄H₂O、CO₂、O₂、CO、硫化物 均 < 1 ppb;金屬去除 < 1 ppb

注意事項

・不可用於氧化性氣體或酸性氣體以外的誤用場合,選型前請確認氣體相容性 ・溫度顯示異常時應立即切斷氣源 ・吸附飽和後不可就地棄置,需返廠處理