แผ่นกรอง ULPA สารอินทรีย์ต่ำ/โบรอนต่ำ Nouvelle TGMML

รายละเอียดสินค้า

TGMML เป็นแผ่นกรอง ULPA แบบมินิพลีทที่ทั้งสารอินทรีย์ต่ำและโบรอนต่ำในตัวเดียว ประสิทธิภาพ 99.9995% @ 0.1 μm ควบคุมการปล่อยทั้งสารอินทรีย์และโบรอนไปพร้อมกัน จึงเป็น ULPA ระดับสูงสุดสำหรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์แนวหน้าและพื้นที่ที่อ่อนไหวต่อโฟโตรีซิสต์ คุณสมบัติเด่น ・ULPA 99.9995% @ 0.1 μm ・สารอินทรีย์ต่ำและโบรอนต่ำพร้อมกัน ・โครงสร้างมินิพลีท (ความดันตกคร่อมต่ำ) ・สเปกมาตรฐานของพื้นที่อ่อนไหวต่อ AMC ที่โหนดต่ำกว่า 14 นาโนเมตร อุตสาหกรรมเป้าหมาย：การแพทย์ เภสัชกรรม อิเล็กทรอนิกส์

สเปกสำคัญ

ประสิทธิภาพการกรอง: 99.9995%@0.1μm
อัตราลมพิกัด: 2 – 39.5 CMM (120 – 2370 CMH)
ความดันตกเริ่มต้น: 118 – 147 Pa
ขนาดมาตรฐาน: W 305–1500 × H 305–915 × D 65–98 mm

ขอใบเสนอราคา

LINE @baisheng

WeChat

Email：sales@baisheng-tech.com

โทรศัพท์：+886-2-25981958

ตารางสเปก

ประสิทธิภาพการกรอง: 99.9995%@0.1μm
อัตราลมพิกัด: 2 – 39.5 CMM (120 – 2370 CMH)
ความดันตกเริ่มต้น: 118 – 147 Pa
ขนาดมาตรฐาน: W 305–1500 × H 305–915 × D 65–98 mm

ตารางเทียบรุ่น

ลำดับ	รุ่น	ประสิทธิภาพ	W (mm)	H (mm)	D (mm)	อัตราลม (CMM)	อัตราลม (CMH)	ความดันตกเริ่มต้น (Pa)
1	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	305	305	65	2.0	120	147
2	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	305	610	65	4.5	270	147
3	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	457	457	65	5.0	300	147
4	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	610	610	65	10.0	598	147
5	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	762	610	65	12.5	750	147
6	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	915	610	65	15.0	900	147
7	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	1220	610	65	20.5	1230	147
8	TGMML-Z-E41	99.9995%@0.1μm	1500	915	65	39.0	2340	147
9	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	305	305	98	2.0	120	118
10	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	305	610	98	4.5	270	118
11	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	457	457	98	5.5	328	118
12	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	610	610	98	10.0	600	118
13	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	762	610	98	12.5	750	118
14	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	915	610	98	15.5	930	118
15	TGMML-Z-E38	99.9995%@0.1μm	1500	915	98	39.5	2370	118

คำอธิบายโดยละเอียด

TGMML แก้ปัญหา AMC สองชนิดที่โรงงานเซมิคอนดักเตอร์ให้ความสำคัญที่สุดไปพร้อมกัน (สารอินทรีย์กลุ่มคาร์บาเมตและโบรอน) เหมาะกับสภาพแวดล้อมที่ไวต่อทั้งสารอินทรีย์และโบรอน เช่น บริเวณรอบเครื่องลิโทกราฟีและโซนเคลือบโฟโตรีซิสต์

วัสดุและโครงสร้าง

รายการ	ข้อกำหนด
กรอบ	ALUMINUM
วัสดุกรอง	GLASS PAPER
อุณหภูมิใช้งานสูงสุด	60°C
ความชื้นสัมพัทธ์	60%RH
แผ่นคั่น	HOT MELT ADHESIVE
ปะเก็น	EPDM
ตะแกรงป้องกันด้านลมออก	-
ตะแกรงป้องกันด้านลมเข้า	-
กาวซีล	POLYURETHANE RESIN
อัตราลมสูงสุด	Can be calculated on request
ความดันตกคร่อมช่วงปลายสูงสุด	294