Màng ULPA low-organic/low-boron Nouvelle TGMML - Khu vô cơ Nhật Bản | Baisheng Tech
Mã sản phẩmNM-TGMMLKhu vô cơ Nhật BảnULPA tiêu chuẩn
Khu vô cơ Nhật Bản

Màng ULPA low-organic/low-boron Nouvelle TGMML

Tổng quan sản phẩm

TGMML là ULPA mini-pleats low-organic + low-boron, hiệu suất 99,9995% @ 0,1 μm. Kiểm soát đồng thời phát tán chất hữu cơ và boron — cấp ULPA cao nhất cho quy trình bán dẫn tiên tiến và vùng nhạy photoresist. Đặc điểm chính ・ULPA 99,9995% @ 0,1 μm ・Đồng thời low-organic + low-boron ・Cấu trúc mini-pleats (tổn áp thấp) ・Chuẩn cho vùng nhạy AMC dưới 14 nm Ngành ứng dụng:Y tế、Dược phẩm、Điện tử

Tính năng & Thông số kỹ thuật

SốMã sản phẩmHiệu suấtW (mm)H (mm)D (mm)Lưu lượng (CMM)Lưu lượng (CMH)Tổn áp ban đầu (Pa)
1TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm305305652.0120147
2TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm305610654.5270147
3TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm457457655.0300147
4TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm6106106510.0598147
5TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm7626106512.5750147
6TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm9156106515.0900147
7TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm12206106520.51230147
8TGMML-Z-E4199.9995%@0.1μm15009156539.02340147
9TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm305305982.0120118
10TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm305610984.5270118
11TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm457457985.5328118
12TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm6106109810.0600118
13TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm7626109812.5750118
14TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm9156109815.5930118
15TGMML-Z-E3899.9995%@0.1μm15009159839.52370118

Email:sales@baisheng-tech.com

Điện thoại+886-2-25981958

Mô tả chi tiết

TGMML giải quyết đồng thời hai loại AMC quan trọng nhất trong nhà máy bán dẫn: hữu cơ (amin, carbamate) và boron. Dùng tại khu lithography và phủ/phơi photoresist — nơi nhạy cả hai.

Vật liệu & Cấu trúc

Thông sốChi tiết
KhungALUMINUM
Lớp lọcGLASS PAPER
Nhiệt độ tối đa60°C
Độ ẩm tương đối60%RH
Vách ngănHOT MELT ADHESIVE
GioăngEPDM
Lưới sau-
Lưới trước-
Keo dánPOLYURETHANE RESIN
Lưu lượng tối đaCan be calculated on request
Tổn áp cuối tối đa (Pa)294

Lưu lượng vs Tổn áp (giá trị tiêu biểu)

010020030040050002004006008001000Lưu lượng (m³/h)Tổn áp (Pa)TGMML 65mmTGMML 98mm
Đường cong đại diện 1220×610 mm. 98 mm cho tổn áp thấp nhất.

Ứng dụng

- Quanh thiết bị lithography EUV / DUV - Khu phủ và phơi photoresist - Nhà máy wafer tiên tiến (dưới 14 nm)

Hướng dẫn chọn loại

- Chỉ cần low-boron → BGMML kinh tế hơn. - Chỉ cần low-organic → liên hệ để tư vấn. - Cần cả hai → chọn TGMML (cấp cao nhất).

Tham khảo chọn sản phẩm

Trước khi đặt hàng, hãy xác nhận cấp hiệu suất, loại vật liệu lọc, và môi trường vận hành có phù hợp yêu cầu.