NIPPON MUKI
Filtro ULPA de baja emisión orgánica y bajo boro Nouvelle TGMML
Descripción del producto
TGMML es un filtro ULPA mini-pleats de baja emisión orgánica y bajo boro, con una eficiencia del 99,9995% @ 0,1 μm. Controla simultáneamente la desgasificación orgánica y la de boro: es el ULPA del grado más alto para procesos de semiconductores de vanguardia y zonas sensibles a la fotorresina.
Características principales
・ULPA 99,9995% @ 0,1 μm
・Baja emisión orgánica y bajo boro de forma simultánea
・Construcción mini-pleats (baja caída de presión)
・Estándar para zonas sensibles al AMC por debajo de 14 nm
Sectores destinatarios：Sanitario, Farmacéutico, Electrónica
Características y especificaciones
| N.º | Modelo | Eficiencia | An (mm) | Al (mm) | P (mm) | Caudal (CMM) | Caudal (CMH) | ΔP inicial (Pa) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 305 | 305 | 65 | 2.0 | 120 | 147 |
| 2 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 305 | 610 | 65 | 4.5 | 270 | 147 |
| 3 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 457 | 457 | 65 | 5.0 | 300 | 147 |
| 4 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 610 | 610 | 65 | 10.0 | 598 | 147 |
| 5 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 762 | 610 | 65 | 12.5 | 750 | 147 |
| 6 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 915 | 610 | 65 | 15.0 | 900 | 147 |
| 7 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 1220 | 610 | 65 | 20.5 | 1230 | 147 |
| 8 | TGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1μm | 1500 | 915 | 65 | 39.0 | 2340 | 147 |
| 9 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 305 | 305 | 98 | 2.0 | 120 | 118 |
| 10 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 305 | 610 | 98 | 4.5 | 270 | 118 |
| 11 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 457 | 457 | 98 | 5.5 | 328 | 118 |
| 12 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 610 | 610 | 98 | 10.0 | 600 | 118 |
| 13 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 762 | 610 | 98 | 12.5 | 750 | 118 |
| 14 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 915 | 610 | 98 | 15.5 | 930 | 118 |
| 15 | TGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1μm | 1500 | 915 | 98 | 39.5 | 2370 | 118 |
Descripción detallada
El TGMML aborda los dos AMC más críticos en fábricas de semiconductores: orgánicos (aminas, carbamatos) y boro. Se emplea en naves de litografía y en zonas de recubrimiento/revelado de fotorresistencia sensibles a ambas clases de contaminante.
Materiales y construcción
| Propiedad | Especificación |
|---|---|
| Marco del filtro | ALUMINIO |
| Medio filtrante | PAPEL DE VIDRIO |
| Temperatura máxima | 60°C |
| Humedad relativa | 60%HR |
| Separador | ADHESIVO TERMOFUSIBLE |
| Junta | EPDM |
| Rejilla (aguas abajo) | - |
| Rejilla (aguas arriba) | - |
| Sellante | RESINA DE POLIURETANO |
| Caudal máximo | Calculable bajo pedido |
| ΔP final máxima (Pa) | 294 |
Airflow vs Pressure Drop (representative)
Aplicaciones
- Entorno de equipos de litografía EUV / DUV - Zonas de recubrimiento y revelado de fotorresistencia - Fábricas de obleas de vanguardia (por debajo de 14 nm)Notas de selección
- Solo bajo boro → el BGMML es más económico. - Solo baja emisión orgánica → consulte otras opciones. - Ambos requisitos → elija el TGMML (grado más alto).Referencias de selección
Antes de pedir, verifique el grado de eficiencia, el tipo de medio filtrante y si el entorno de trabajo se ajusta a sus requisitos.
