โซน NIPPON MUKI
แผ่นกรอง ULPA โบรอนต่ำ BGMML
รายละเอียดสินค้า
BGMML เป็นแผ่นกรอง ULPA แบบมินิพลีทชนิดโบรอนต่ำ ประสิทธิภาพ 99.9995% @ 0.1-0.2 μm วัสดุกรองใยแก้วโบรอนต่ำช่วยป้องกันไม่ให้ตัวแผ่นกรองเองปล่อยสารประกอบโบรอนไปปนเปื้อนกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ จึงเป็นสเปกมาตรฐานของโหนด 14 นาโนเมตรลงไป
คุณสมบัติเด่น
・ULPA 99.9995% @ 0.1-0.2 μm
・วัสดุกรองใยแก้วโบรอนต่ำ (น้อยกว่า 10 ppm B)
・โครงสร้างมินิพลีท (ความดันตกคร่อมต่ำ)
・สเปกมาตรฐานสำหรับกระบวนการต่ำกว่า 14 นาโนเมตร
อุตสาหกรรมเป้าหมาย：การแพทย์ เภสัชกรรม อิเล็กทรอนิกส์
สเปกสำคัญ
- ประสิทธิภาพการกรอง
- 99.9995%@0.1-0.2μm
- อัตราลมพิกัด
- 2 – 52.5 CMM (120 – 3150 CMH)
- ความดันตกเริ่มต้น
- 118 – 147 Pa
- ขนาดมาตรฐาน
- W 305–1500 × H 305–1220 × D 65–98 mm
ตารางสเปก
- ประสิทธิภาพการกรอง
- 99.9995%@0.1-0.2μm
- อัตราลมพิกัด
- 2 – 52.5 CMM (120 – 3150 CMH)
- ความดันตกเริ่มต้น
- 118 – 147 Pa
- ขนาดมาตรฐาน
- W 305–1500 × H 305–1220 × D 65–98 mm
ตารางเทียบรุ่น
| ลำดับ | รุ่น | ประสิทธิภาพ | W (mm) | H (mm) | D (mm) | อัตราลม (CMM) | อัตราลม (CMH) | ความดันตกเริ่มต้น (Pa) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 305 | 65 | 2.0 | 120 | 147 |
| 2 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 610 | 65 | 4.5 | 270 | 147 |
| 3 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 457 | 457 | 65 | 5.0 | 300 | 147 |
| 4 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 610 | 610 | 65 | 10.0 | 598 | 147 |
| 5 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 762 | 610 | 65 | 12.5 | 750 | 147 |
| 6 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 915 | 610 | 65 | 15.0 | 900 | 147 |
| 7 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1220 | 610 | 65 | 20.5 | 1230 | 147 |
| 8 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1500 | 1220 | 65 | 52.5 | 3150 | 147 |
| 9 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 305 | 98 | 2.0 | 120 | 118 |
| 10 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 610 | 98 | 4.5 | 270 | 118 |
| 11 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 457 | 457 | 98 | 5.0 | 300 | 118 |
| 12 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 610 | 610 | 98 | 10.0 | 598 | 118 |
| 13 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 762 | 610 | 98 | 12.5 | 750 | 118 |
| 14 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 915 | 610 | 98 | 15.0 | 900 | 118 |
| 15 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1500 | 1220 | 98 | 52.5 | 3150 | 118 |
คำอธิบายโดยละเอียด
BGMML ออกแบบมาเฉพาะสำหรับกระบวนการขั้นสูงของเซมิคอนดักเตอร์ (ต่ำกว่า 14nm) โบรอนในวัสดุกรอง ULPA มาตรฐานอาจหลุดออกมาในกระแสก๊าซความบริสุทธิ์สูงและทำให้เกิดการปนเปื้อนแบบเจือสาร P-type；BGMML ใช้ใยแก้วโบรอนต่ำ ปริมาณโบรอนที่ปล่อยออกมา < 10 ppm
วัสดุและโครงสร้าง
| รายการ | ข้อกำหนด |
|---|---|
| กรอบ | ALUMINUM |
| วัสดุกรอง | GLASS PAPER |
| อุณหภูมิใช้งานสูงสุด | 60°C |
| ความชื้นสัมพัทธ์ | 60%RH |
| แผ่นคั่น | HOT MELT ADHESIVE |
| ปะเก็น | CHLOROPRENE |
| ตะแกรงป้องกันด้านลมออก | - |
| ตะแกรงป้องกันด้านลมเข้า | - |
| กาวซีล | POLYURETHANE RESIN |
| อัตราลมสูงสุด | Can be calculated on request |
| ความดันตกคร่อมช่วงปลายสูงสุด | 294 (245 when H>760) |
Airflow vs Pressure Drop (representative)
พื้นที่การใช้งาน
- กระบวนการขั้นสูงของเซมิคอนดักเตอร์ต่ำกว่า 14nm - โซนแสงสีเหลืองของโรงงานรับจ้างผลิตเวเฟอร์ - บริเวณรอบเครื่องเคลือบโฟโตรีซิสต์/เครื่องฉายแสงข้อแนะนำในการเลือกรุ่น
- หากต้องการสเปกสารอินทรีย์ต่ำพร้อมกันด้วย → เลือก TGMML - งานเซมิคอนดักเตอร์ทั่วไป → ATMML จะประหยัดกว่า - ออกแบบแบบมินิพลีท ความดันตกคร่อมต่ำกว่า BGMC (แบบแผ่นคั่น)ข้อมูลอ้างอิงสำหรับการเลือกใช้
ก่อนสั่งซื้อ โปรดตรวจสอบระดับประสิทธิภาพ ชนิดของวัสดุกรอง และสภาพแวดล้อมการใช้งานว่าตรงกับความต้องการของคุณหรือไม่
