โซน NIPPON MUKI
แผ่นกรอง ULPA โบรอนต่ำ BGMML
รายละเอียดสินค้า
BGMML เป็นแผ่นกรอง ULPA แบบมินิพลีทชนิดโบรอนต่ำ ประสิทธิภาพ 99.9995% @ 0.1-0.2 μm วัสดุกรองใยแก้วโบรอนต่ำช่วยป้องกันไม่ให้ตัวแผ่นกรองเองปล่อยสารประกอบโบรอนไปปนเปื้อนกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ จึงเป็นสเปกมาตรฐานของโหนด 14 นาโนเมตรลงไป
คุณสมบัติเด่น
・ULPA 99.9995% @ 0.1-0.2 μm
・วัสดุกรองใยแก้วโบรอนต่ำ (น้อยกว่า 10 ppm B)
・โครงสร้างมินิพลีท (ความดันตกคร่อมต่ำ)
・สเปกมาตรฐานสำหรับกระบวนการต่ำกว่า 14 นาโนเมตร
อุตสาหกรรมเป้าหมาย：การแพทย์ เภสัชกรรม อิเล็กทรอนิกส์
คุณสมบัติและข้อมูลจำเพาะ
| ลำดับ | รุ่น | ประสิทธิภาพการกรอง | W (มม.) | H (มม.) | D (มม.) | อัตราลม (CMM) | อัตราลม (CMH) | ความดันตกคร่อมเริ่มต้น (Pa) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 305 | 65 | 2.0 | 120 | 147 |
| 2 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 610 | 65 | 4.5 | 270 | 147 |
| 3 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 457 | 457 | 65 | 5.0 | 300 | 147 |
| 4 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 610 | 610 | 65 | 10.0 | 598 | 147 |
| 5 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 762 | 610 | 65 | 12.5 | 750 | 147 |
| 6 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 915 | 610 | 65 | 15.0 | 900 | 147 |
| 7 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1220 | 610 | 65 | 20.5 | 1230 | 147 |
| 8 | BGMML-Z-E41 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1500 | 1220 | 65 | 52.5 | 3150 | 147 |
| 9 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 305 | 98 | 2.0 | 120 | 118 |
| 10 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 305 | 610 | 98 | 4.5 | 270 | 118 |
| 11 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 457 | 457 | 98 | 5.0 | 300 | 118 |
| 12 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 610 | 610 | 98 | 10.0 | 598 | 118 |
| 13 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 762 | 610 | 98 | 12.5 | 750 | 118 |
| 14 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 915 | 610 | 98 | 15.0 | 900 | 118 |
| 15 | BGMML-Z-E38 | 99.9995%@0.1-0.2μm | 1500 | 1220 | 98 | 52.5 | 3150 | 118 |
คำอธิบายโดยละเอียด
BGMML is engineered for advanced semiconductor nodes (≤14 nm). Boron in standard ULPA media can outgas in high-purity airflow and cause unintended p-type doping; BGMML uses low-boron glass fiber with <10 ppm B release.
Materials & Construction
| Property | Specification |
|---|---|
| Filter frame | ALUMINUM |
| Media | GLASS PAPER |
| Max. temperature | 60°C |
| Relative humidity | 60%RH |
| Separator | HOT MELT ADHESIVE |
| Gasket | CHLOROPRENE |
| Grille (downstream) | - |
| Grille (upstream) | - |
| Sealant | POLYURETHANE RESIN |
| Max airflow | Can be calculated on request |
| Max final PD (Pa) | 294 (245 when H>760) |
Airflow vs Pressure Drop (representative)
Applications
- Sub-14 nm semiconductor advanced processes - Lithography bays in wafer fabs - Around photoresist coating / exposure equipmentSelection Notes
- If low-organic is also required, choose TGMML. - For general semiconductor, ATMML is more economical. - Mini-pleats design — lower PD than BGMC (separator type).ข้อมูลอ้างอิงสำหรับการเลือกใช้
ก่อนสั่งซื้อ โปรดตรวจสอบระดับประสิทธิภาพ ชนิดของวัสดุกรอง และสภาพแวดล้อมการใช้งานว่าตรงกับความต้องการของคุณหรือไม่
