Màng ULPA low-boron BGMML - Khu vô cơ Nhật Bản | Baisheng Tech
Mã sản phẩmNM-BGMMLKhu vô cơ Nhật BảnULPA tiêu chuẩn
Khu vô cơ Nhật Bản

Màng ULPA low-boron BGMML

Tổng quan sản phẩm

BGMML là ULPA mini-pleats low-boron, hiệu suất 99,9995% @ 0,1-0,2 μm. Lớp lọc sợi thủy tinh low-boron ngăn nhiễm bẩn boron từ màng lọc trong quy trình bán dẫn — tiêu chuẩn cho node ≤14 nm. Đặc điểm chính ・ULPA 99,9995% @ 0,1-0,2 μm ・Sợi thủy tinh low-boron (< 10 ppm B) ・Cấu trúc mini-pleats (tổn áp thấp) ・Tiêu chuẩn cho quy trình bán dẫn dưới 14 nm Ngành ứng dụng:Y tế、Dược phẩm、Điện tử

Tính năng & Thông số kỹ thuật

SốMã sản phẩmHiệu suấtW (mm)H (mm)D (mm)Lưu lượng (CMM)Lưu lượng (CMH)Tổn áp ban đầu (Pa)
1BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm305305652.0120147
2BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm305610654.5270147
3BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm457457655.0300147
4BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm6106106510.0598147
5BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm7626106512.5750147
6BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm9156106515.0900147
7BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm12206106520.51230147
8BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm150012206552.53150147
9BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm305305982.0120118
10BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm305610984.5270118
11BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm457457985.0300118
12BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm6106109810.0598118
13BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm7626109812.5750118
14BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm9156109815.0900118
15BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm150012209852.53150118

Email:sales@baisheng-tech.com

Điện thoại+886-2-25981958

Mô tả chi tiết

BGMML thiết kế cho node bán dẫn tiên tiến (≤14 nm). Boron trong lớp lọc ULPA thông thường có thể phát tán trong khí sạch và gây nhiễm bẩn p-type doping; BGMML sử dụng sợi thủy tinh low-boron (<10 ppm B).

Vật liệu & Cấu trúc

Thông sốChi tiết
KhungALUMINUM
Lớp lọcGLASS PAPER
Nhiệt độ tối đa60°C
Độ ẩm tương đối60%RH
Vách ngănHOT MELT ADHESIVE
GioăngCHLOROPRENE
Lưới sau-
Lưới trước-
Keo dánPOLYURETHANE RESIN
Lưu lượng tối đaCan be calculated on request
Tổn áp cuối tối đa (Pa)294 (245 when H>760)

Lưu lượng vs Tổn áp (giá trị tiêu biểu)

010020030040050002004006008001000Lưu lượng (m³/h)Tổn áp (Pa)BGMML 65mmBGMML 98mm
Đường cong đại diện 1220×610 mm. 98 mm cho tổn áp thấp nhất.

Ứng dụng

- Bán dẫn tiên tiến dưới 14 nm - Khu lithography trong nhà máy wafer - Quanh thiết bị phủ/phơi photoresist

Hướng dẫn chọn loại

- Nếu cần low-organic nữa → chọn TGMML. - Bán dẫn thông thường → ATMML kinh tế hơn. - Thiết kế mini-pleats, tổn áp thấp hơn BGMC (vách ngăn).

Tham khảo chọn sản phẩm

Trước khi đặt hàng, hãy xác nhận cấp hiệu suất, loại vật liệu lọc, và môi trường vận hành có phù hợp yêu cầu.