BGMML 低硼 ULPA 濾網 - 日本無機專區 | 佰聖科技
編號NM-BGMML日本無機專區標準 ULPA
日本無機專區

BGMML 低硼 ULPA 濾網

產品概述

BGMML 為低硼(Low-Boron)Mini-pleats 型 ULPA 濾網,效率 99.9995% @ 0.1-0.2 μm。採用低硼玻纖濾材,避免濾網本體釋放硼化合物污染半導體製程,為 14nm 以下先進製程的標配。 主要特色 ・ULPA 效率 99.9995% @ 0.1-0.2 μm ・低硼玻纖濾材(< 10 ppm B) ・Mini-pleats 結構(低壓損) ・14nm 以下製程標配 適用產業:醫療、製藥、電子

產品特性

編號型號過濾效率W (mm)H (mm)D (mm)風量 (CMM)風量 (CMH)初期壓損 (Pa)
1BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm305305652.0120147
2BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm305610654.5270147
3BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm457457655.0300147
4BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm6106106510.0598147
5BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm7626106512.5750147
6BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm9156106515.0900147
7BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm12206106520.51230147
8BGMML-Z-E4199.9995%@0.1-0.2μm150012206552.53150147
9BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm305305982.0120118
10BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm305610984.5270118
11BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm457457985.0300118
12BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm6106109810.0598118
13BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm7626109812.5750118
14BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm9156109815.0900118
15BGMML-Z-E3899.9995%@0.1-0.2μm150012209852.53150118

Email:sales@baisheng-tech.com

電話(02) 2598-1958

詳細說明

BGMML 專為半導體先進製程(14nm 以下)設計。標準 ULPA 濾材中的硼可能於高純氣流中析出,造成 P-type 摻雜污染;BGMML 採用低硼玻纖,硼釋放量 < 10 ppm。

材質與結構

項目規格
框架ALUMINUM
濾材GLASS PAPER
最高使用溫度60°C
相對濕度60%RH
分隔板HOT MELT ADHESIVE
墊片CHLOROPRENE
出風護網-
進風護網-
密封膠POLYURETHANE RESIN
最大風量Can be calculated on request
最大終期壓損294 (245 when H>760)

風量 vs 壓損曲線(代表值)

010020030040050002004006008001000風量 (m³/h)壓損 (Pa)BGMML 65mmBGMML 98mm
以 1220×610 mm 為代表。98 mm 深度壓損最低。

應用場域

- 14nm 以下半導體先進製程 - 晶圓代工廠黃光區 - 光阻塗佈/曝光機台周邊

選型建議

- 如同時需要低有機物規格 → 選 TGMML。 - 一般半導體 → ATMML 較經濟。 - Mini-pleats 設計,壓損較 BGMC(分隔板型)低。

選型參考

在下單前,建議先確認:等級規格、濾材特性、以及運作環境是否符合需求。