NIPPON MUKI
Filtro HEPA de baja emisión orgánica y bajo boro Nouvelle TGML
Descripción del producto
TGML es un filtro HEPA mini-pleats con baja emisión orgánica y bajo boro de forma simultánea, y una eficiencia del 99,99% @ 0,3 μm. Combina la ventaja de baja caída de presión del mini-pleats con el control de ambas clases de AMC: es el grado superior para los FFU de procesos por debajo de 14 nm.
Características principales
・Baja emisión orgánica y bajo boro de forma simultánea
・HEPA 99,99% @ 0,3 μm
・Construcción mini-pleats (baja caída de presión)
・Grado superior para FFU de procesos avanzados
Sectores destinatarios：Sanitario, Farmacéutico, Electrónica
Características y especificaciones
| N.º | Modelo | Eficiencia | An (mm) | Al (mm) | P (mm) | Caudal (CMM) | Caudal (CMH) | ΔP inicial (Pa) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | TGML-10-E25 | 99.99%@0.3μm | 610 | 610 | 50 | 10.0 | 598 | 127 |
| 2 | TGML-20-E25 | 99.99%@0.3μm | 1220 | 610 | 50 | 20.5 | 1232 | 127 |
| 3 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 305 | 305 | 65 | 2.0 | 120 | 98 |
| 4 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 457 | 457 | 65 | 5.0 | 300 | 98 |
| 5 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 305 | 610 | 65 | 4.5 | 270 | 98 |
| 6 | TGML-10-E41 | 99.99%@0.3μm | 610 | 610 | 65 | 10.0 | 600 | 98 |
| 7 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 762 | 610 | 65 | 12.5 | 750 | 98 |
| 8 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 915 | 610 | 65 | 15.0 | 900 | 98 |
| 9 | TGML-20-E41 | 99.99%@0.3μm | 1220 | 610 | 65 | 20.5 | 1230 | 98 |
| 10 | TGML-Z-E41 | 99.99%@0.3μm | 1500 | 915 | 65 | 39.0 | 2340 | 98 |
| 11 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 305 | 305 | 75 | 2.0 | 120 | 88 |
| 12 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 457 | 457 | 75 | 5.0 | 300 | 88 |
| 13 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 305 | 610 | 75 | 4.5 | 270 | 88 |
| 14 | TGML-10-E23 | 99.99%@0.3μm | 610 | 610 | 75 | 10.0 | 600 | 88 |
| 15 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 762 | 610 | 75 | 12.5 | 750 | 88 |
| 16 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 915 | 610 | 75 | 15.0 | 900 | 88 |
| 17 | TGML-20-E23 | 99.99%@0.3μm | 1220 | 610 | 75 | 20.5 | 1230 | 88 |
| 18 | TGML-Z-E23 | 99.99%@0.3μm | 1500 | 915 | 75 | 39.0 | 2340 | 88 |
| 19 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 305 | 305 | 98 | 2.0 | 120 | 84 |
| 20 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 457 | 457 | 98 | 5.0 | 300 | 84 |
| 21 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 508 | 508 | 98 | 6.5 | 390 | 84 |
| 22 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 305 | 610 | 98 | 4.5 | 270 | 84 |
| 23 | TGML-10-E38 | 99.99%@0.3μm | 610 | 610 | 98 | 10.0 | 600 | 84 |
| 24 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 762 | 610 | 98 | 12.5 | 750 | 84 |
| 25 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 915 | 610 | 98 | 15.5 | 930 | 84 |
| 26 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 1000 | 610 | 98 | 17.0 | 1020 | 84 |
| 27 | TGML-20-E38 | 99.99%@0.3μm | 1220 | 610 | 98 | 20.5 | 1230 | 84 |
| 28 | TGML-Z-E38 | 99.99%@0.3μm | 1500 | 915 | 98 | 39.5 | 2370 | 84 |
Descripción detallada
El TGML es la especificación de AMC definitiva en formato mini-pleats: controla simultáneamente la contaminación orgánica y la de boro. Diseñado para FFU en procesos por debajo de 14 nm donde la baja ΔP es esencial y la limpieza no admite concesiones.
Materiales y construcción
| Propiedad | Especificación |
|---|---|
| Marco del filtro | ALUMINIO |
| Medio filtrante | PAPEL DE VIDRIO |
| Temperatura máxima | 60°C |
| Humedad relativa | 60%HR |
| Separador | ADHESIVO TERMOFUSIBLE |
| Junta | EPDM |
| Rejilla (aguas abajo) | - |
| Rejilla (aguas arriba) | - |
| Sellante | RESINA DE POLIURETANO |
| Caudal máximo | Calculable bajo pedido |
| ΔP final máxima (Pa) | 294 |
Airflow vs Pressure Drop (representative)
Aplicaciones
- FFU en fábricas de obleas por debajo de 14 nm - FFU en el entorno de equipos EUV / DUV - FFU en zonas de recubrimiento fotorresistenteNotas de selección
- Solo bajo boro → el BGML es más económico. - Solo baja emisión orgánica → consulte una solución a medida. - Ambos requisitos → elija el TGML (grado superior).Referencias de selección
Antes de pedir, verifique el grado de eficiencia, el tipo de medio filtrante y si el entorno de trabajo se ajusta a sus requisitos.
