Filtro HEPA de bajo boro BGML - NIPPON MUKI | Baisheng Tech
Código de productoNM-BGMLNIPPON MUKIHEPA estándar
NIPPON MUKI

Filtro HEPA de bajo boro BGML

Descripción del producto

BGML es un filtro HEPA mini-pleats de bajo boro con una eficiencia del 99,99% @ 0,3 μm. Combina medio de fibra de vidrio de bajo boro con construcción mini-pleats: una especificación de bajo boro y baja caída de presión para la filtración terminal de FFU en semiconductores. Características principales ・Medio de fibra de vidrio de bajo boro (menos de 10 ppm de B) ・HEPA 99,99% @ 0,3 μm ・Construcción mini-pleats (baja caída de presión) ・Estándar para FFU de semiconductores Sectores destinatarios:Electrónica

Características y especificaciones

N.ºModeloEficienciaAn (mm)Al (mm)P (mm)Caudal (CMM)Caudal (CMH)ΔP inicial (Pa)
1BGML-Z-E4199.99%@0.3μm305305652.012098
2BGML-Z-E4199.99%@0.3μm457457655.030098
3BGML-Z-E4199.99%@0.3μm305610654.527098
4BGML-10-E4199.99%@0.3μm6106106510.060098
5BGML-Z-E4199.99%@0.3μm7626106512.575098
6BGML-Z-E4199.99%@0.3μm9156106515.090098
7BGML-20-E4199.99%@0.3μm12206106520.5123098
8BGML-Z-E4199.99%@0.3μm150012206552.5315098
9BGML-Z-E2399.99%@0.3μm305305752.012088
10BGML-Z-E2399.99%@0.3μm457457755.030088
11BGML-Z-E2399.99%@0.3μm305610754.527088
12BGML-10-E2399.99%@0.3μm6106107510.060088
13BGML-Z-E2399.99%@0.3μm7626107512.575088
14BGML-Z-E2399.99%@0.3μm9156107515.090088
15BGML-20-E2399.99%@0.3μm12206107520.5123088
16BGML-Z-E2399.99%@0.3μm150012207552.5315088
17BGML-Z-E3899.99%@0.3μm305305982.012084
18BGML-Z-E3899.99%@0.3μm457457985.030084
19BGML-Z-E3899.99%@0.3μm305610984.527084
20BGML-10-E3899.99%@0.3μm6106109810.060084
21BGML-Z-E3899.99%@0.3μm7626109812.575084
22BGML-Z-E3899.99%@0.3μm9156109815.593084
23BGML-Z-E3899.99%@0.3μm10006109817.0102084
24BGML-20-E3899.99%@0.3μm12206109820.5123084
25BGML-Z-E3899.99%@0.3μm150012209853.0318084
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Email:sales@baisheng-tech.com

Teléfono+886-2-25981958

Descripción detallada

El BGML combina la construcción de bajo boro con las ventajas de baja ΔP del mini-pleats: la opción clásica para los FFU de techo en semiconductores. Resuelve a la vez las preocupaciones de AMC por boro y los requisitos de eficiencia energética.

Materiales y construcción

PropiedadEspecificación
Marco del filtroALUMINIO
Medio filtrantePAPEL DE VIDRIO
Temperatura máxima60°C
Humedad relativa60%HR
SeparadorADHESIVO TERMOFUSIBLE
JuntaEPDM
Rejilla (aguas abajo)-
Rejilla (aguas arriba)-
SellanteRESINA DE POLIURETANO
Caudal máximoCalculable bajo pedido
ΔP final máxima (Pa)294

Airflow vs Pressure Drop (representative)

05010015020002004006008001000Air volume (m³/h)Pressure drop (Pa)BGML 65mmBGML 75mmBGML 98mm
Se muestran tres profundidades representativas. Las variantes más profundas tienen menor ΔP.

Aplicaciones

- FFU de techo en semiconductores - FFU de naves de litografía en fundiciones de obleas - FFU de sala limpia en fábricas de memorias

Notas de selección

- Alto caudal → BGMC (tipo separador). - Baja ΔP → BGML (este modelo). - Si también se requiere baja emisión orgánica → TGML.

Referencias de selección

Antes de pedir, verifique el grado de eficiencia, el tipo de medio filtrante y si el entorno de trabajo se ajusta a sus requisitos.