Khu vô cơ Nhật Bản
Màng lọc trung tính tổn áp thấp Elelta EML
Tổng quan sản phẩm
EML là màng trung tính tổn áp siêu thấp, hiệu suất 55% @ 0,4 μm, lưu lượng đến 3360 CMH @ chỉ 74 Pa/đơn vị. Lớp lọc không dệt — lý tưởng cho máy xử lý khí ngoài trời (OAPU), giảm tiêu thụ điện và kéo dài tuổi thọ HEPA.
Đặc điểm chính
・Hiệu suất 55% @ 0,4 μm
・Tổn áp siêu thấp (74 Pa @ 3360 CMH)
・Lớp lọc không dệt
・Tiêu chuẩn cho OAPU
Ngành ứng dụng：Xây dựng、Y tế、Bảo tàng
Tính năng & Thông số kỹ thuật
| Số | Mã sản phẩm | Hiệu suất | W (mm) | H (mm) | D (mm) | Lưu lượng (CMM) | Lưu lượng (CMH) | Tổn áp ban đầu (Pa) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | EML-56H-90 | 80%@0.4μm | 305 | 610 | 65 | 28.0 | 1680 | 83 |
| 2 | EML-56H-60 | 55%@0.4μm | 305 | 610 | 65 | 28.0 | 1680 | 74 |
| 3 | EML-56-90 | 80%@0.4μm | 610 | 610 | 65 | 56.0 | 3360 | 83 |
| 4 | EML-56-60 | 55%@0.4μm | 610 | 610 | 65 | 56.0 | 3360 | 74 |
| 5 | EML-Z-90 | 80%@0.4μm | 1220 | 760 | 65 | 144.0 | 8640 | 83 |
| 6 | EML-Z-65 | 55%@0.4μm | 1220 | 760 | 65 | 144.0 | 8640 | 74 |
Mô tả chi tiết
Elelta EML thiết kế cho máy xử lý khí ngoài trời (OAPU). Tổn áp thấp + lưu lượng cao giúp giảm mạnh điện năng sơ cấp; thường dùng làm màng sơ cấp cho hệ HEPA.
Vật liệu & Cấu trúc
| Thông số | Chi tiết |
|---|---|
| Khung | ALUMINUM |
| Lớp lọc | NONWOVEN FABRIC |
| Nhiệt độ tối đa | 60°C |
| Độ ẩm tương đối | 95%RH |
| Vách ngăn | HOT MELT ADHESIVE |
| Gioăng | CHLOROPRENE |
| Lưới sau | - |
| Lưới trước | - |
| Keo dán | POLYURETHANE RESIN |
| Lưu lượng tối đa | Can be calculated on request |
| Tổn áp cuối tối đa (Pa) | 294 |
Lưu lượng vs Tổn áp (giá trị tiêu biểu)
Ứng dụng
- OAPU cho tòa nhà - Điều hòa không khí sạch cho bệnh viện / bảo tàng - Lọc trung gian AHU cho công trình thương mạiHướng dẫn chọn loại
- Nếu cần chịu nhiệt → chọn ASTCH / ASTCE / ASTC. - Nếu cần màng sơ cấp HEPA tổn áp siêu thấp → EML là tối ưu. - Phiên bản sợi thủy tinh → ASTC.Tham khảo chọn sản phẩm
Trước khi đặt hàng, hãy xác nhận cấp hiệu suất, loại vật liệu lọc, và môi trường vận hành có phù hợp yêu cầu.
