活性碳化學濾網
適用nikon曝光機濾網/PCDA化學濾網
產品概述
化學濾網主要用於鹼性物質(氨、胺類等)、酸性物質(氯化氫、硫化氫、二氧化硫等)、有機物質(高沸機物、矽氧烷等)等過濾。
產品特性
能給予製造裝置內或設備配管內的清淨化，去除給排氣系統使用的壓縮空氣內的微量氣體、去除製品捆包時的塵埃、N2Pure類氣的代替品。
詳細說明
PCDA化學濾網常應用於：
半導體、液晶曝光裝置、計儀器週邊、檢查工程。
黏結機器、雷射加工機等。
太陽电池玻璃基板加工、食品加工、再生醫療、分析機器。
具有以下優點：
簡單的安裝作業.可直接與空壓配管串連。
可以去除酸性氣體、鹼性氣體、有機系氣體。
可自由設計流量與欲除去的對象氣體。
產品規格：
| 風量 | 型式 | 尺寸 | 接頭 | 本體 | 重量 |
|---|---|---|---|---|---|
| 30^/mim | PG-F32A38S158TS | 080x158mm | Rc 3/8in | SUS304 | 約2kg |
| 50^/mim | PG-F50A38S258TS | 0100x258mm | Rc 3/8in | SUS304 | 約4kg |
| 100^/mim | PG-F100A12S258TS | 0170x258mm | Rc 1/2in | SUS304 | 約 10kg |
